上海集成電路研發中心位于上海市張江高科技園區，地理位置毗鄰華力微電子和中芯國際。ICRD建有12英寸開放式集成電路工藝研發和裝備材料試驗平臺，凈化面積超過3000平方米，研發環境及管理系統和大生產線匹配，可實現硅片無沾污進出和工藝流程無縫銜接，加快了技術研發和驗證速度。ICRD擁有浸沒式193nm光刻機、硅刻蝕機、原子層薄膜生長（ALD）、高能離子注入機以及全套銅互連和Low-K等工藝設備，工藝研發能力可達14納米以下。
ICRD芯片怎么樣？上海集成電路研發中心聚焦集成電路主流技術路線，致力于解決重大共性技術的研發及服務支撐問題，并為自主可控產業鏈建設提供公共的裝備和材料驗證平臺。ICRD的主要功能包括：為集成電路企業和研發單位提供前端器件及工藝技術的前期研發和產品級驗證；為集成電路裝備和材料提供研制到上線的驗證和工藝配套；為集成電路生產線升級提供知識產權和技術轉移；為國內設計企業研制芯片提供特色工藝和共享IP核服務；為企業及高校提供培養集成電路技術人才和高技能人才的實訓基地。
上海集成電路研發中心擁有一批來自國際研發機構和跨國公司的研究人員，并通過國內外產業合作持續培養和鍛煉了一支擁有自主工藝技術提升能力的研發隊伍，為中國集成電路產業的自主可控持續發展提供了中堅力量。ICRD掌握了多個技術代的工藝技術和知識產權，為中國集成電路生產線的建設提供了多套技術轉移和服務；通過設立產業界共性技術研發項目，進行FinFET器件及工藝、FDSOI關鍵工藝、5nm以下納米線晶體管等新器件和工藝技術的聯合研發；開展產學研合作，研發STT-MRAM、晶體管級3D堆疊、量子點傳感器、類神經元晶體管等前沿技術和產品；通過以精湛工藝帶動裝備和材料研發評價的方式，為國產光刻機、刻蝕機、銅互連、光刻膠、大硅片等裝備和材料提供驗證和工藝配套，推動供應鏈的國產化。
上海集成電路研發中心有限公司（ICRD）成立于2002年，是國家支持組建、產學研合作的集成電路研發中心。ICRD由中國集成電路相關企業集團和高校聯合投資組建而成，是一個獨立的面向全行業集成電路企業、大學及研究所開放的公共研發機構。
